GYEON Q²M Eccentric Polish pad GYEON Q²M Eccentric Polish pad:GYEON Q²M Eccentric Polish pad 5” Una vez que quede una

Una vez que quede una ligera película de residuo

también se puede utilizar para eliminar las manchas de brea de los bordes pulidos

El ingrediente activo SiO2 añade una protección real que se puede ver cada vez que se lava

es extremadamente fácil de aplicar y permite una aplicación tanto en seco como en húmedo

AVISO DE SEGURIDAD Y APLICACION

GYEON Q²M Eccentric Polish pad GYEON Q²M Eccentric Polish pad:GYEON Q²M Eccentric Polish pad 5” Una vez que quede unaPad de pulido mediano diseado para proporcionar una excelente profundidad y reducir los defectos secundarios. Hecho de foam de alta calidad, sper duradera y disponible en formas especiales dedicadas a diferentes mquinas de pulido. DISEADO PARA PULIDORAS EXCNTRICAS Diseado exclusivamente para cumplir con los requisitos de los pulidores excntricos modernos. La forma de cono permite una distribucin precisa de la presin. El borde especialmente cortado